Atomic Layer Deposition

Marja-Leena K??ri?inen. Atomic Layer Deposition
Marja-Leena K??ri?inen. Atomic Layer Deposition
4.75 из 5, отдано 22 голосов
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.
  • Категория: материаловедение
  • Правообладатель: John Wiley & Sons Limited
  • Возрастное ограничение: 0+
  • ISBN: 9781118747421
  • Легальная стоимость: 23047.44 руб.

Читать книгу «Atomic Layer Deposition» онлайн:

Комментарии ():

Вам также может понравиться:

Оставайтесь на связи

Будьте в курсе новостей о выходящих книгах, подпишитесь на нашу еженедельную рассылку:
© 2011-2024. Your Lib. All Rights Reserved.