МОС-гидридная эпитаксия в технологии материалов фотоники и электроники

Р. Х. Акчурин. МОС-гидридная эпитаксия в технологии материалов фотоники и электроники
Р. Х. Акчурин. МОС-гидридная эпитаксия в технологии материалов фотоники и электроники
2.5 из 5, отдано 11 голосов
В книге рассмотрены теоретические и практические аспекты МОС-гидридной эпитаксии (МОСГЭ) – одного из наиболее гибких и производительных современных методов получения полупроводниковых структур. Кратко изложены физико-химические основы метода, приведено описание высокопроизводительного технологического оборудования для реализации МОСГЭ и методов контроля роста эпитаксиальных слоев in situ , затронуты вопросы моделирования процессов. Практические аспекты реализации метода подробно рассмотрены на примере формирования эпитаксиальных структур полупроводников AIIIBV, AIIBVI и твердых растворов на их основе – основных материалов современной оптоэлектроники и ИК-техники. Значительное внимание уделено формированию наноразмерных эпитаксиальных структур и гетероструктур на основе нитридов элементов III группы, технология которых получила стремительное развитие в последние годы. Рассмотрены вопросы адаптации метода МОСГЭ к получению ряда новых материалов электронной техники. Книга предназначена специалистам в области технологии полупроводниковых материалов, может быть полезна аспирантам и студентам соответствующих специальностей.
  • Категория: монографии
  • Правообладатель: Техносфера
  • Год написания: 2018
  • Возрастное ограничение: 0+
  • ISBN: 978-5-94836-521-3
  • Легальная стоимость: 749.00 руб.

Читать книгу «МОС-гидридная эпитаксия в технологии материалов фотоники и электроники» онлайн:

Комментарии ():

Вам также может понравиться:

Оставайтесь на связи

Будьте в курсе новостей о выходящих книгах, подпишитесь на нашу еженедельную рассылку:
© 2011-2024. Your Lib. All Rights Reserved.