Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра
Н. В. Макушина
Приведены современные требования к геометрической точности изготовления пластин-подложек интегральных микросхем. Рассмотрены кремниевые подложки диаметром 150 и 200 мм, а также сапфировые подложки диаметром 100 мм. Описаны новые технологические операции, применяемые при производстве полупроводниковых пластин. Для студентов специальности «Проектирование и производство электронной аппаратуры» и «Проектирование и технология радиоэлектронных средств», изучающих курс «Микроэлектроника». Ил. 17. Табл. 8.
- Категория: учебники и пособия для вузов
- Правообладатель: МГТУ им. Н.Э. Баумана
- Год написания: 2006
- Возрастное ограничение: 0+
- ISBN: 5-7038-2926-7
- Легальная стоимость: 118.00 руб.
Читать книгу «Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра» онлайн:
Комментарии ():
Вам также может понравиться:
